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机械网--离子束辅助镀膜(IAC)技术

发布时间:2021-11-18 17:10:45 阅读: 来源:洗衣机厂家

1.技术内容及技术关键 离子束辅助镀膜的原理见图1。在真空室中将离子源产生的离子引出政府拆迁手续不全能强拆吗,并在电场中加速,构成几10电子伏到几10千电子伏能量的离子束。在离子束溅射沉积、离子束直接沉积或电子束蒸发沉积薄膜的同时,用上述离子束进行轰击(也可先镀膜后轰击)。利用沉积原子和轰击离子之间1系列的物理化学作用,可在常温下合成各种良好薄膜。其关键技术是离子源、靶室和工艺参数的控制。离子源是产生所需离子的关键部件,它的种类与质量决定着制备膜层的性能和质量。离子源的种类不下2、310种,用于离子束材料表面改性的也有10多种。目前在这方面用得较多或较好的有:①考夫曼(Kaufman)源,它能产生气体元素的大面积离子束,适合用于离子束溅射镀膜、对膜层进行离子束轰击和对工件进行离子束表面清洗。②金属蒸气真空电弧放电(MEVVA)离子源,这是近10年来发展起来的新型离子源。它能产生强流金属离子大面积束,适合用于离子束直接镀膜和金属离子注入。③弗里曼(Freeman)源和伯纳斯(Bernas)源,它们能产生气体和固体元素的离子束,具有狭长形离子发射缝,适用于带粒子分析器的离子注入机及离子束镀膜设备。④微波离子源,该种离子源没有发射电子的灯丝,它依托微波能量产生离子,因此寿命长,能连续工作100h以上,它既能产生大面积结束,又能产生仄长条束;既能产生气体离子,又能产生固体离子,是1种很有发展前程的离子源。 图1 离子束辅助镀膜装置a)离子束溅射沉积b)离子束直接沉积c)电子束沉积

靶室是装载工件,进行离子束表面处理的部件,它的容积大小、靶的工件夹具机构及其运动方式,随工件种类的不同,差异很大。目前世界上最大的靶室在英国哈威尔(Harwell)研究中心。其直径和深度均为2.5m,可装载1.5t的大型零件。由于离子束对工件是直射注入,因此为了使非平面零件能均匀注入,零件的夹具必须转动。大零件的夹具还需作X、Y2维移动。为了对零件的孔或斜面进行注入,应采取斜靶。如果零件呈球状,机构的运动方式将更加复杂。通常靶的运动方式可参见图2。精确控制工艺参数,保证工件表面的沉积原子数与轰击原子数到达1定的比例,对膜层的性能和质量相当重要。其技术关键是要精确控制离子束的能量和束流的稳定性。而束流大小与离子源的放电功率及供气量有关。通常是用质量流量计控制供气量,并通过控制原子源的电源,稳定放电功率,特别是稳定放电电流。只有这样,才能获得高质量的膜层。

2.技术特性及使用范围 由于IAC技术增强膜层与基体的结协力,不是依托提高基体的温度,而是依托离子轰击膜层的能量,因此它能在基体接近室温的条件下商铺拆迁补偿不合理怎么处理,获得致密的、结协力很强的、应力极小的高质量膜层。也就是说,IAC技术兼有离子注入和1般镀膜技术(CVD和PVD)的优点,克服了2者的缺点。它们的优缺点比较可见表1。

IAC技术由于具有以上的特点,使得它可在温度不允许很高的基体上,制备出结协力很强的具有各种特殊的膜层拆迁房拿到房产证能贷款吗,如ZrN、ZrC、BN、TiO2和类金刚石碳膜等。国外已有人将它用于柴油机自动加工用的切削刀具、飞机燃料系统的零件和燃气轮机叶片上。国内亦有单位正在将它用于提高汽轮机叶片抗水蚀的性能。目前这1新技术的工业利用正在开发当中,予期会有很好的利用前景。资讯分类行业动态帮助文档展会专题报道5金人物商家文章